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概念
不随版本变化
放大流程：从小图到大图
直接生成大图又慢又容易崩。主流做法是先定构图、再放大补细节。
需要高分辨率成品时，把生成尺寸直接拉大往往代价很高：显存吃紧、结构容易崩、耗时成倍增长。更稳的做法是先在小尺寸把构图与内容定下来，再放大补细节。
为什么不直接生成大图
- 计算量与显存占用随总像素增长，大尺寸很快超出可用范围
- 尺寸越大，模型越容易在局部产生重复结构或结构错乱
- 一次生成要同时解决「画什么」和「画细」两个目标，反而更难控
- 分两步之后，每一步都能单独重跑与调整
两种放大思路
| 思路 | 做法 | 特点 |
|---|---|---|
| 放大模型（无损取向） | 用专门的放大模型把图放大并补细节 | 快、稳定、不改内容语义；细节是「补」出来的 |
| 放大重绘（生成取向） | 放大后按较低强度再生成一遍，让模型重画细节 | 细节更丰富，但会改动内容；强度决定改多少 |
两者常组合使用：先用放大模型把尺寸提上去，再用小强度重绘补质感。
典型流程
- 小图生成：在显存与速度都可接受的尺寸上定构图，跑出满意的种子与参数。
- 放大尺寸：用放大模型把图放大到目标尺寸，先看结构有没有崩。
- 低强度重绘：用很小的去噪强度重画一遍，补细节。强度一大就会改内容，所以要从小往大试。
- 必要时分块处理：目标尺寸很大时按块放大再拼接，避免一次性占用过高；接缝处要留重叠区。
常见误解
常见误解
- 以为放大就是变清晰
放大补的是细节的「观感」，不会凭空恢复原图里不存在的信息。原图糊的地方放大后仍然是糊的，只是更好看。 - 重绘强度开得太大
放大重绘的强度通常比图生图还小。开大了等于重新生成，前面定好的构图就白做了。 - 一次跳太多倍
从很小直接放到很大，容易出现结构与质感断层。分两三次逐步放大更稳。